| 特点 | 真空蒸镀 | 磁控溅射 | 离子镀膜 |
| 优点 | 制备成本低，设备简单， 易于控制 | 薄膜质量高，适用于 复杂形状的基底 | 薄膜致密，膜层均匀， 能够制备高质量的薄膜 |
| 缺点 | 生产效率低，只能制备 少量样品 | 制备成本高，设备复杂， 难于控制 | 与基底结合性差，需要 进行后续处理 |
| 制备成本 | 低 | 高 | 中 |
| 生产效率 | 低 | 高 | 高 |
| 薄膜质量 | 一般 | 高 | 高 |
| 可扩展性 | 一般 | 一般 | 好 |
| 应用领域 | 光学、电子、建筑等 | 光学、电子、磁性材料等 | 光学、电子、表面涂层等 |