占空比 8.822:12.57 μm 膜厚0.8 μm 黑片接触式光刻机

光刻胶

胶线宽(μm)

金属线宽(μm)

试制结果

该光刻胶

9.04

8.85

该光刻胶

8.85

9.15

AZ 5214-E

9.05

8.89

占空比3.84:4.99 μm膜厚0.29 μm黑片接触式光刻机

光刻胶

胶线宽(μm)

金属线宽(μm)

试制结果

该光刻胶

4.09

4.08

该光刻胶

4.02

4.04

AZ 5214-E

4.05

4.00

占空比18.16:18.78 μm 接触式光刻机

工艺参数

胶线宽(μm)

金属线宽(μm)

试制结果

AZ 5214-E

18.66

18.43

该光刻胶

18.94

18.75

占空比1.22:3.44 μm 白片接触式光刻机

光刻胶

胶线宽(μm)

金属线宽(μm)

试制结果

AZ 5214-E

1.91

1.91

该光刻胶

1.88

1.78