占空比 8.822:12.57 μm 膜厚0.8 μm 黑片接触式光刻机 | |||
光刻胶 | 胶线宽(μm) | 金属线宽(μm) | 试制结果 |
该光刻胶 | 9.04
| 8.85
|
|
该光刻胶 | 8.85
| 9.15
|
|
AZ 5214-E | 9.05
| 8.89
|
|
占空比3.84:4.99 μm膜厚0.29 μm黑片接触式光刻机 | |||
光刻胶 | 胶线宽(μm) | 金属线宽(μm) | 试制结果 |
该光刻胶 | 4.09
| 4.08
|
|
该光刻胶 | 4.02
| 4.04
|
|
AZ 5214-E | 4.05
| 4.00
|
|
占空比18.16:18.78 μm 接触式光刻机 | |||
工艺参数 | 胶线宽(μm) | 金属线宽(μm) | 试制结果 |
AZ 5214-E | 18.66
| 18.43
|
|
该光刻胶 | 18.94
| 18.75
|
|
占空比1.22:3.44 μm 白片接触式光刻机 | |||
光刻胶 | 胶线宽(μm) | 金属线宽(μm) | 试制结果 |
AZ 5214-E | 1.91
| 1.91
|
|
该光刻胶 | 1.88
| 1.78
|
|