道次

轧制方向

实际平均晶粒尺寸/μm

细化程度% (原始晶粒尺寸20.4 μm)

模拟平均晶粒尺寸/μm

相对误差/%

单道次

与压弯垂直

15.2

25.49%

14.3

5.92

与压弯平行

14.7

27.94%

15.1

2.72

两道次

与压弯垂直

12.6

38.2%

11.8

6.34

与压弯平行

11.4

44.12%

10.7

4.76