| 高新器件 | 制造中所需的高纯气体 |
| 大规模集成电路 | 化学气相沉积：SiH4、NH3、O2、N2O、TEOS(四乙氧基硅) |
| 化学刻蚀：CF4、SF6、NF3、Cl2、CCl4、BCl3、HBr、HCl | |
| 化学掺杂：BF3、B2H6、PH3、AsH3 | |
| 液晶屏 | 化学气相沉积：SiH4、SiNx |
| 化学刻蚀：SF6、HCl、Cl2 | |
| 太阳能电池 | 化学气相沉积：SiH4、PH3、NF3 |
| 扩散、刻蚀：POCl3、O2、CF4 | |
| 光电半导体 | 化学气相沉积：AsH3、PH3、NH3、N2、H2 |
| 化学刻蚀：BCl3、Cl2 | |
| 光导纤维 | 化学气相沉积：SiH4、SiCl4、GeCl4 |
| 化学刻蚀：CF4、Cl2、SF6 |