特性

制备成本

生产效率

薄膜质量

优点

缺点

应用领域

热CVD

高温高压环境可控、沉积速率快

高温易损伤衬底、生产效率低

适用于半导体、太阳能电池等领域

PECVD

低温低压环境衬底受损伤小

沉积速率慢、易产生粉尘

适用于显示器、光伏等领域