涂层来源

涂层粒子获得方法

镀膜技术类型

镀膜技术名称

气体放电方式

工作偏压 (V)

金属离化率(%)

固态源

阴极溅射

磁控溅射离子镀镀

二级型溅射镀

辉光放电

0

0

平面靶磁控溅射镀

辉光放电

100~200

10~20

柱状靶磁控溅射镀

辉光放电

100~200

10~15

热蒸发

蒸发镀

电阻蒸发镀

无

0

0

电子枪蒸发镀

无

0

0

蒸发型离子镀

直流二级型离子镀

辉光放电

1000

1~3

空心阴极离子镀

热弧光放电

100~200

20~40

热丝弧离子镀

热弧光放电

100~200

>40

阴极电弧离子镀

冷场致弧光放电

100~200

60~90